Представители наших компаний принимают участие в работе 9-го Российского форума «Микроэлектроника 2023», проводимого в Сириусе 9-14 октября.

Оперативно связаться с нашими делегатами можно по телефонам +7-910-911-70-80 и +7-916-681-16-85.
Наша компания участвует в 24-ой Международной выставке электронных компонентов, модулей и комплектующих ExpoElectronica 2022, которая проходит 12−14 апреля 2022 в МВЦ «Крокус Экспо», Павильон 3, зал 14. Наш стенд  А4145. Приглашаем в гости!

 
В ноябре 2021 года ООО «МеГа Эпитех» в очередной раз успешно прошло сертификацию и подтвердило соответствие системы менеджмента качества требованиям международного стандарта ISO 9001:2015. Обновленный сертификат действует до 2024 года
     

Нашими компаниями были представлены два стендовых доклада на 7-ом Российском форуме «Микроэлектроника 2021», проходившем в Алуште 3-9 октября:

Крюков В.Л., Васильчиков А.С., Крюков Е.В.
«Гетероструктуры GaAs-AlGaAs для приборов персонализированной медицины» / «GaAs-AlGaAs heterostructures for personalized medicine devices»
Проведены исследования совокупности технологических факторов, позволяющих получать специализированные гетероструктуры GaAs-GaAlAs с высокой мощностью излучения, малым отклонением длины волны электролюминесценции от номинального значения, не более ±3 нм, и высокой стабильностью параметров в процессе эксплуатации, предназначенные для использования в приборах персонализированной медицины.
Скачать RUS / Dounload ENG

Крюков В. Л., Крюков Е.В., Леви А.В.
«Высокоомные структуры GaAs-AlGaAs для силовой электроники»  / «High-ohmic GaAs-AlGaAs structures for power electronics»
Рассмотрены особенности конструкции высокоомных p-i-n структур на основе системы GaAs-AlGaAs и способа их выращивания методом жидкофазной эпитаксии, которые позволяют получать силовые  диоды, существенно превосходящие по совокупности основных параметров лучшие кремниевые аналоги. Разработанная технология позволяет эффективно управлять ключевыми параметрами p-i-n структуры (обратное напряжение, быстродействие, видом процесса обратного восстановления) заданием определенных режимов процесса эпитаксиального выращивания.
Скачать RUS / Dounload ENG

Наши делегаты также приняли участие в работе круглого стола «Проблемные вопросы и перспективы развития отрасли особо чистых веществ и материалов для электроники и фотоники», на котором рассматривались актуальные вопросы импортозамещения особо чистых веществ и материалов, применяемых для производства ЭКБ в микроэлектронике, СВЧ­-электронике, силовой электронике, фотонике и оптике, а также создания экспортно-ориентированных производств. 

Зарегистрирован патент № 2727124 «Способ получения низколегированного слоя GaAs методом жидкофазной эпитаксии»